洁净等级 | ISO标准 | 对应中国等级 | ≥0.5μm粒子限值(颗/m³) | 适用场景 |
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ISO 3 | 1级 | - | ≤1,020 | 半导体晶圆制造(极少数) |
ISO 4 | 10级 | - | ≤10,200 | 高端芯片光刻区 |
ISO 5 | 100级 | A级 | ≤3,520 | 半导体封装、Micro LED生产 |
ISO 6 | 1,000级 | B级 | ≤35,200 | 精密光学元件、SMT贴片 |
ISO 7 | 10,000级 | C级 | ≤352,000 | 电子元器件组装、锂电涂布 |
ISO 8 | 100,000级 | D级 | ≤3,520,000 | 普通电子装配、包装区域 |
标准:ANSI/ESD S20.20
要求:
地面表面电阻 10⁶~10⁹Ω(防静电环氧/PVC)。
工作台/设备接地,员工穿戴防静电服(摩擦电压<100V)。
标准:SEMI F21-1102
限值:
污染物类型 | 允许浓度(ppt) |
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酸性气体(HCl) | <1 |
碱性气体(NH₃) | <10 |
典型范围:
温度 22±1℃(半导体需±0.5℃)。
湿度 45±5% RH(防静电要求可能低至30%)。
生产环节 | 推荐洁净等级 | 补充要求 |
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晶圆制造(光刻) | ISO 3~4 | AMC控制+防微震 |
芯片封装 | ISO 5 | 防静电+氮气保护 |
PCB印刷(SMT) | ISO 6~7 | 锡膏区需湿度<40% RH |
锂电池电极涂布 | ISO 7 | 粉尘浓度<1mg/m³ |
普通电子组装 | ISO 8 | 防静电即可 |
悬浮粒子检测:
仪器:激光粒子计数器(按ISO 14644-1采样点布置)。
频率:空态/静态/动态三阶段测试。
静电监测:
表面电阻测试仪、静电场分析仪。
AMC检测:
气相色谱仪(GC-MS)或离子色谱仪。
动态控制:
人员活动时,实际粒子数可能比静态测试高1~2个数量级,需预留安全余量。
材料兼容性:
禁用木质、棉麻等产尘材料,设备需无油润滑。
持续监测:
建议安装在线粒子计数器+压差报警系统。
国际:ISO 14644-1、SEMI F21
中国:GB 50073-2013《洁净厂房设计规范》、GB 50472-2008《电子工业洁净厂房设计规范》
电子厂需根据产品工艺(如纳米级芯片 vs 普通电路板)选择对应等级,并叠加防静电、AMC等专项控制。建议咨询专业洁净室工程公司进行定制化设计。